RTP（Rapid Thermal Processing）快速退火爐通常用于半導(dǎo)體制造和其他高溫處理過程中。氧含量在這些過程中是一個關(guān)鍵參數(shù)，因為它可以影響材料的性質(zhì)。監(jiān)控RTP快速退火爐中的氧含量通常涉及使用專門的儀器和技術(shù)。

  Microx-223氧分析儀是一種專門用于測量氣體中氧含量的高精度儀器，非常適合在RTP快速退火爐上監(jiān)控氧含量。這種分析儀結(jié)合了先進的技術(shù)和可靠的測量原理，能夠在高溫和惡劣的工業(yè)環(huán)境中提供準確和快速的氧含量數(shù)據(jù)。

特點

? 測量范圍：1ppm-25％ O2

? 可靠的氧化鋯傳感器技術(shù)

? 適用于嚴苛的環(huán)境

? 響應(yīng)快

? 導(dǎo)軌式安裝

? LCD顯示和4個多功能按鈕

? 4-20mA信號輸出

? RS-232通訊協(xié)議

? 24VDC供電

? 3組繼電器報警

? M18x1.5螺紋過程接口

以下是Microx-223氧分析儀在RTP快速退火爐上監(jiān)控氧含量的步驟和注意事項：

1. 安裝和校準：

將Microx-223氧分析儀安裝在RTP快速退火爐的適當位置，確保傳感器能夠準確接觸到爐內(nèi)的氣體。

在安裝前對分析儀進行校準，以確保其測量結(jié)果的準確性。校準通常包括零點校準和量程校準。

2. 集成到控制系統(tǒng)：

將Microx-223氧分析儀與RTP退火爐的控制系統(tǒng)進行集成，以便能夠?qū)崟r傳輸和顯示氧含量數(shù)據(jù)。

通過控制系統(tǒng)，可以設(shè)置報警閾值，當氧含量超過或低于預(yù)設(shè)值時，系統(tǒng)會自動發(fā)出報警，以便操作人員及時采取應(yīng)對措施。

3. 實時監(jiān)測和數(shù)據(jù)記錄：

在RTP退火爐的運行過程中，Microx-223氧分析儀會實時監(jiān)測爐內(nèi)的氧含量，并將數(shù)據(jù)實時傳輸?shù)娇刂葡到y(tǒng)中。

控制系統(tǒng)可以自動記錄氧含量的歷史數(shù)據(jù)，并生成報表或趨勢圖，以便后續(xù)分析和優(yōu)化工藝參數(shù)。

4. 維護和校準：

定期對Microx-223氧分析儀進行維護和校準，以確保其長期穩(wěn)定運行和測量準確性。

根據(jù)使用情況和制造商的建議，定期更換傳感器和消耗品。

5. 培訓(xùn)和操作：

對操作人員進行培訓(xùn)，使其了解Microx-223氧分析儀的基本原理、操作方法和維護要求。

操作人員應(yīng)熟悉控制系統(tǒng)的界面和功能，能夠正確解讀氧含量數(shù)據(jù)，并根據(jù)需要調(diào)整工藝參數(shù)。

  通過使用Microx-223氧分析儀，RTP快速退火爐的氧含量可以得到準確和實時的監(jiān)控，從而確保產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)安全。同時，通過對歷史數(shù)據(jù)的分析和處理，還可以優(yōu)化工藝參數(shù)，提高生產(chǎn)效率和降低成本。